Jensen Huang a fixé une date. Interrogé dans le podcast All-In sur la capacité de la Chine à développer ses propres équipements avancés de fabrication de semi-conducteurs, le fondateur et CEO de NVIDIA a estimé que le pays pourrait y parvenir d'ici 2030.

Son raisonnement repose surtout sur les capacités industrielles chinoises. La Chine possède déjà une immense base manufacturière, des investissements considérables dans les semi-conducteurs et une pression très concrète pour remplacer les équipements étrangers devenus difficiles ou impossibles à importer. Pour Huang, quelques années supplémentaires suffiraient donc à transformer les progrès actuels en outils beaucoup plus capables.

2030, oui. Mais pour quelle lithographie ?

C'est là que la déclaration devient beaucoup plus intéressante que la simple date. « Lithographie avancée » ne désigne pas une machine unique ni même un seuil universellement accepté.

La Chine développe déjà des équipements domestiques et a progressé sur la lithographie DUV. Reuters rapportait encore cet été les ambitions de fabricants chinois autour de systèmes DUV à immersion, alors que les restrictions d'accès aux équipements occidentaux accélèrent les investissements locaux.

La marche suivante est autrement plus haute. ASML reste pratiquement seule sur la lithographie EUV utilisée pour les puces les plus avancées. Ses machines combinent optique de très haute précision, sources lumineuses complexes, mécanique, métrologie et une chaîne de fournisseurs développée sur plusieurs décennies.

Et ASML ne s'arrête évidemment pas en attendant ses éventuels concurrents. Ses clients commencent déjà à adopter les systèmes High-NA EUV, des équipements évalués autour de 400 millions de dollars et capables de réduire encore les dimensions imprimables par rapport à l'EUV actuel.

Le calendrier de Huang reste très agressif

Une machine capable de fonctionner en laboratoire n'est pas encore un outil industriel compétitif. Dans une fab, le débit de wafers, le taux de défauts, la disponibilité, la précision entre deux expositions et le coût d'exploitation comptent au moins autant que la finesse théorique obtenue sur une démonstration.

C'est probablement la plus grosse réserve à placer derrière le « 2030 » de Jensen Huang. La Chine pourrait parfaitement disposer à cette date d'un système beaucoup plus avancé qu'aujourd'hui sans avoir pour autant produit un équivalent commercial de l'EUV ou du High-NA EUV d'ASML.

Même la terminologie complique la comparaison. Une nouvelle machine DUV à immersion permettant, avec du multi-patterning, de fabriquer des circuits sensiblement plus fins constituerait déjà un progrès stratégique majeur pour l'industrie chinoise. Cela ne signifierait pas qu'ASML aurait perdu son avance technologique.

Pourquoi l'avis de Jensen Huang compte

Huang n'est pas un observateur extérieur du marché. NVIDIA se trouve au centre de la demande mondiale en puces de pointe et dépend directement de procédés de fabrication avancés, notamment chez TSMC, pour produire ses accélérateurs. Les limites de capacité, la mémoire HBM, le packaging avancé et les équipements de fabrication sont devenus des éléments aussi déterminants que l'architecture des GPU elle-même.

Son optimisme envers la vitesse de progression chinoise n'est d'ailleurs pas nouveau. Il insiste régulièrement sur la profondeur du vivier d'ingénieurs et sur les capacités de production du pays. Cela ne transforme pas sa prédiction en feuille de route industrielle vérifiée.

Les données disponibles racontent pour l'instant une histoire plus nuancée : les fournisseurs chinois progressent, tandis qu'ASML conserve une avance immense sur les équipements les plus complexes. L'entreprise néerlandaise détenait encore l'essentiel du marché mondial de la lithographie en 2025 et reste sans concurrent commercial direct en EUV.

Le vrai test ne sera pas une annonce

Si Huang a raison sur le calendrier, le moment important ne sera probablement pas la présentation d'un prototype chinois. Ce sera l'arrivée d'une machine installée dans plusieurs fabs, avec un débit reproductible, des rendements acceptables et suffisamment de disponibilité pour participer à une production en volume.

2030 est proche à l'échelle d'une industrie où la mise au point d'une nouvelle génération d'outils peut prendre des années. C'est précisément ce qui rend la prédiction de Jensen Huang aussi ambitieuse.